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μ-401A-RO Lab Thermal & Organic Evaporation Deposition Platform
磁控溅射是物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition, PVD)的一种。一般用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料,具有设备简单、易于控制、效率高,面积大等优点。 ..
μ-401A-R Lab Evaporation Deposition Platform
型号EVAP400S主真空室方形前开门结构,尺寸L×W×H:400×400×450mm进样室(选配)开门结构,尺寸约为ø200 X 300mm真空系统配置主真空室复合分子泵、机械泵、气动闸板阀进样室机..
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